Ero sivun ”Ohutkalvon kasvatus” versioiden välillä
| [arvioimaton versio] | [arvioimaton versio] |
Poistettu sisältö Lisätty sisältö
p Täsmennystä botin avulla: PET korvattiin link(e)illä Polyetyleenitereftalaatti |
|||
Rivi 1:
'''Ohutkalvon kasvatuksella''' tarkoitetaan kaikkia niitä tekniikoita, joilla siirretään ohut materiaalikerros kasvatusalustalle (alustasta käytetään usein termiä [[substraatti]]). Ohutkalvon "ohuus" on suhteellinen käsite. Joillakin kasvatustekniikoilla (esimerkiksi [[ALD]] ja MBE, Molecular Beam epitaxy) päästään atomikerroksittain kasvattamaan kalvon paksuutta, mutta useimmilla menetelmillä pienin säädettävissä oleva paksuus on joitakin kymmeniä [[nano]]metrejä. Kalvojen paksuudesta puhuttaessa käytetään usein mittana [[Ångström]]iä. Ohutkalvojen kasvatustekniikat ovat kehittyneet 50-luvulta alkaen [[elektroniikka]]teollisuuden kehittyessä. Näitä tekniikoita on alettu yhä laajemmin soveltamaan myös muiden tuotteiden valmistuksessa. [[Nanoteknologia]] on käyttää paljolti samoja valmistusmenetelmiä.
Ohutkalvoja käytetään [[optiikka|optiikassa]] esimerkiksi heijastuksen poistokalvoina, elektroniikassa [[eriste]]- tai [[johde]]kalvoina, hohdekalvoina [[litteä näyttö|litteissä näytöissä]] kuten [[elektroluminesenssi]]näytöt, [[puolijohde|puolijohteissa]], pakkauskalvoissa (esimerkiksi [[alumiini]]kalvo [[Polyetyleenitereftalaatti|PET]]-muovikalvolla). Ohutkalvoja voidaan käyttää myös korroosion estossa tai passivointikerroksina parantamaan materiaalin happojen kestävyyttä tai vähentämään elimistöjen hylkimisefektiä.
Ohutkalvojen kasvatustekniikat jakaantuvat karkeasti kahteen ryhmään riippuen siitä, onko kasvatusprosessi pääosin [[kemia]]llinen ja [[fysiikka|fysikaalinen]].
| |||