Ero sivun ”Laser” versioiden välillä
[arvioimaton versio] | [arvioimaton versio] |
Poistettu sisältö Lisätty sisältö
p r2.7.1) (Botti lisäsi: la:Laser |
→Lasertyyppejä: nbsp |
||
Rivi 75:
** [[hiilimonoksidi]]laserit - vaativat jäähdytystä, voivat tuottaa jopa 500 kW:n tehon
* [[Eksimeeri]]laserit, tuottavat [[ultravioletti]]a valoa. Käytetään puolijohteiden valmistukseen ja [[LASIK]]-[[silmäkirurgia]]ssa. Aallonpituuksia 157 nm (F<sub>2</sub>), 193 nm (ArF), 222 nm (KrCl), 248 nm (KrF), 308 nm (XeCl), 351 nm (XeF).
* [[Dermatologia]]ssa käytetään usein lasereita esimerkiksi [[tatuointi]]en ja [[syntymämerkki]]en poistoon. Tyypillisiä lasereita ovat muun muassa [[rubiini]]laser (694 nm), [[aleksandriittilaser]] (755 nm), pulssitettu diodilaserhila (810 nm), Nd:YAG (
* [[puolijohde]]laserit,
** pienet: käytetään laserosoittimissa, lasertulostimissa ja CD/DVD-soittimissa.
Rivi 84:
* [[neodyymi]]rikastetut YAG-laserit, [[infrapuna]]-alueella toimivia suurteholasereita joilla hitsataan, leikataan tai merkitään [[metalli|metalleja]] tai muita materiaaleja.
* [[ytterbium]]-rikastetut laserit, esimerkiksi Yb:YAG, Yb:KGW, Yb:KYW, Yb:SYS, Yb:BOYS, Yb:CaF2, tai Yb-rikastettuja laseja (esimerkiksi [[valokuitu|valokuidut]]). Toimivat tavallisesti
* [[erbium]]-rikastettu [[YAG]],
* [[tulium]]-rikastettu YAG,
* [[Holmium]] YAG,
* [[Titaani]]-rikastetut [[safiirilaser]]it, viritettävä [[infrapuna]]-alueen laser, käytetään [[spektroskopia]]ssa.
* [[Erbium]]-rikastetut [[kuitulaser]]it, käytetään [[optinen kuitu|optiseen kuituun]] valmistettuna optisen tietoliikenteen vahvistimina.
|