Ero sivun ”Mikrosysteemit” versioiden välillä

[arvioimaton versio][arvioimaton versio]
Poistettu sisältö Lisätty sisältö
Samuelf (keskustelu | muokkaukset)
Ei muokkausyhteenvetoa
Samuelf (keskustelu | muokkaukset)
pEi muokkausyhteenvetoa
Rivi 11:
==Valmistus==
 
Mikrosysteemit on perinteisesti tehty [[piikiekoille]] [[mikroelektroniikka|mikroelektroniikan]] menetelmiä käyttäen (litografia, etsaus, epitaksi, oksidointi, diffuusio, [[ohutkalvotekniikkaohutkalvo]]jen kasvatus, [[CVD]], bondaus) mutta niitä valmistetaan myös [[lasi]]sta ja [[polymeeri|polymeereistä]].
Kun valmistusalusta on [[piikiekko]], on mahdollista valmistaa ohjaus- ja lukuelektroniikka samalla kertaa. Näin ei kuitenkaan yleensä tehdä, sillä modernien [[CMOS]]-piirien ja mikrosysteemien valmistuksen yksityiskohdat eroavat huomattavasti vaikka työvaiheet ovat periaatteessa samoja. Mm. mikroelektroniikassa pienimmät kuviot ovat 100 nm molemmin puolin, eli 10-100 kertaa pienempiä kuin mikrosysteemeissä, ja siksi olisi liian kallista käyttää CMOS-tehdasta tuottamaan mikrosysteemejä. Yksi tunnettu integroitu siru on turvatyynyn laukaisuun käytetty mikrosysteemi, jossa BiCMOS elektroniikka ja pintamikromekaaninen kiihtyvyysanturi on valmistettu samalle sirulle. Yleensä mikrosysteemi ja elektroniikka integroidaan pakkaustasolla kahden sirun hybridiratkaisuksi.